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抵抗美国制裁,华为早有准备:16年就申请光刻设备和光刻系统专利
网络整理 2020-07-27 12:38(原标题:抵抗美国制裁 华为早有准备:16年就申请光刻设备和光刻系统专利)
此前有消息称,华为自研芯片供应链被美国切断后,华为海思半导体准备自建晶圆厂进行自救,并且公开招募光刻工艺工程师。
7月22日,有消息称华为早已申请了一种光刻设备和光刻系统的专利,已在相关领域进行探索研究,似乎早就在芯片制造工艺领域有所准备。
根据企查查数据显示,华为的这两项专利早在2016年9月就已申请,并且分别于2018年6月和2020年1月公开部分内容。在国家知识产权局亦可进行相关查询。
众所周知,光刻机及光刻技术都是世界顶尖技术,目前全球仅有极少数企业掌握了该项技术。
结合此前华为公开招募光刻工艺工程师的消息,不难确认,华为确实在芯片制造工艺上早有研究。而华为现在被美国切断了自研芯片供应链,华为拿出了这个压箱底的技术。
此外,前不久还有消息称,华为海思半导体仍在扩张中,暂不考虑缩减规模,不考虑“散是满天星”之类的市场传闻把人员散落到其他公司的动作,而是在积极寻找代工厂,打造设计制造一体的IDM(垂直整合制造工厂,芯片设计和芯片制造一体)。
华为海思虽然是全球顶尖的芯片设计公司,但是在芯片制造方面还十分依赖台积电等少数半导体企业。虽然我国也有相关的芯片制造产业链,但是距离最先进的制造工艺仍然巨大的差距。
因此华为此番进军芯片制造领域,肯定面临诸多困难,这将会是一条最艰难,但也是最正确的道路。芯片制造是极其重要的产业,我们必须做到自主可控,不能任由其他国家“掐脖子”,尽管艰难,但我们也不能放弃,仍旧要乘风破浪!
华为IDM模式成熟需要一段漫长的时间,在此之前,华为各项业务可能寻找第三方芯片供应。华为海思半导体本来已经可以满足华为手机80%左右的手机芯片供应,但是因为禁令的缘故,接下来一段时间可能会大量使用联发科芯片。
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